Modutek成立于1980年，为半(ban)(ban)导(dao)体(ti)制(zhi)造设(she)(she)施和(he)研究实(shi)验室提供(gong)湿(shi)法(fa)工艺(yi)技术的(de)半(ban)(ban)导(dao)体(ti)制(zhi)造设(she)(she)备和(he)解决(jue)方案(an)。该公司在内部(bu)设(she)(she)计和(he)制(zhi)造半(ban)(ban)导(dao)体(ti)湿(shi)法(fa)工艺(yi)设(she)(she)备，并可(ke)以(yi)帮助(zhu)选(xuan)择满(man)足(zu)特定客(ke)户要求(qiu)的(de)更佳设(she)(she)备配置。Modutek可(ke)以(yi)从(cong)其全面的(de)标准湿(shi)台(tai)站系列中(zhong)提出设(she)(she)备，或设(she)(she)计定制(zhi)解决(jue)方案(an)以(yi)满(man)足(zu)特殊需求(qiu)。
除了制(zhi)造和(he)(he)供应高(gao)质量的(de)(de)半导体(ti)湿(shi)法工艺设备外，Modutek的(de)(de)服(fu)务还包括(kuo)(kuo)提(ti)(ti)供详(xiang)细的(de)(de)文(wen)档和(he)(he)广泛的(de)(de)售后(hou)支(zhi)持(chi)。图纸可以包括(kuo)(kuo)电气原理图、管(guan)道(dao)和(he)(he)仪表(biao)图纸、布(bu)局和(he)(he)安装图纸。其他信息包括(kuo)(kuo)实体(ti)模(mo)型、流动模(mo)拟(ni)和(he)(he)备件(jian)文(wen)档。该公司在安装期间和(he)(he)验收后(hou)提(ti)(ti)供广泛的(de)(de)客(ke)户支(zhi)持(chi)。
Modutek是半导体制造行业许多设施的首选湿式工作台制造商，具有以下优势：
作为湿式工作台工艺设备制造商，Modutek提供更高质量的可靠设备。
该公司(si)不(bu)断与客户(hu)合作，开发更(geng)好(hao)地(di)满足他们需(xu)求的系统(tong)，并采用更(geng)新技(ji)术。
凭借40年(nian)的经验，公司可以提供满足客户要求的解决方案。
公司(si)内部的专业知识、设(she)计和(he)生(sheng)产意味着一站式解决方(fang)案，没有(you)第(di)三方(fang)。
内部设(she)计(ji)和制造(zao)，包括软件设(she)计(ji)，使Modutek能够提(ti)供技术(shu)支持。
Modutek提供全面的半导(dao)体湿法工艺设备系列，包(bao)括(kuo)全自(zi)动，半自(zi)动和手动站(zhan)(zhan)，可以包(bao)含IPA蒸汽干燥器和化学处理(li)站(zhan)(zhan)。
由于(yu)Modutek设计自(zi)己的工(gong)作站，因此该(gai)公司可以提供定(ding)制(zhi)设计以满足特定(ding)的客户要求。
作为半导体湿式工作台制造商，Modutek提供的优势得到了公司致力于提供高度可靠的设备和实现完全客户满意度的支持。Modutek的优势转化为半导体制造设施的以下优势：
由于效率和更新技术的利用，吞吐量更高
由于颗粒数量减少和(he)清洁度提(ti)高，减少了(le)浪费(fei)，从(cong)而减少了(le)缺(que)陷(xian)产品
由于(yu)工艺一致性和可(ke)重复性高，输(shu)出(chu)质量更高
通过高设备质量和快(kuai)速、全(quan)面的支持减少停机时间
整体提高设施绩效(xiao)和盈利能力(li)
立即联(lian)系(xi)Modutek，为(wei)(wei)您的(de)(de)晶(jing)圆加工，化学品处理和半(ban)导(dao)体(ti)制造要求(qiu)找到具有成本(ben)效益的(de)(de)解决方案(an)。Modutek的(de)(de)工程师和销售团队(dui)随时准备讨论您的(de)(de)新(xin)项目，翻新(xin)生产(chan)线或设施添(tian)加。作为(wei)(wei)半(ban)导(dao)体(ti)湿法(fa)工艺设备和湿法(fa)台站(zhan)的(de)(de)领先供应商，我(wo)们欢迎客户从头到尾的(de)(de)咨询和合作，直到他们完全满意。
半导体湿法工艺设备和湿法工作台用于以下应用：
BOE (Buffered Oxide Etch)
Chrome Etch
Flat Panel Display
GaAs Etching Process
KOH Etching
LED Process
MEMS
Metal Etch
Acid Neutralization Systems
Ozone Process, Photo Resist Strip
Ozone Process, Standard Clean
Plating
Positive Resist Strip
Precision Cleaning
SC1 & SC2 Clean
Silicon Etch
Silicon Nitride Etch
Solar (texturing, saw damage and chemical polishing)
